Главная > Автор Берлин Е.В.
О чем не говорят конспирологи
Книги Берлин Е.В.
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Автор: Берлин Е.В.
Издательство: Техносфера, 2010
Жанр: Нанотехнологии
Страниц: 528 страниц
Загрузил: carabin, 12 сентября 2016
   Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Для правильной работы fb2Мира используйте только последние версии браузеров: Chrome, Opera или Firefox.
В других браузерах работа fb2Мира не гарантируется!
Ваша дата определена как 25 ноября 2024
Рейтинг@Mail.ru
© 2008–2024 fb2Мир